nm450耐磨钢气孔的产生机理及其对缺陷尤其是位错缺陷的影响 | ||||||||||||||||||||||||
来源:山东腾达源金属材料有限公司 发布时间: 2021/2/28 17:17:45 【返回上一步】 | ||||||||||||||||||||||||
本页关键词:nm450耐磨钢气孔的产生机理及其对缺陷尤其是位错缺陷的影响 结合nm450耐磨钢板实际的拉晶工艺,对气孔的产生机理及其对缺陷尤其是位错缺陷的影响进行探究。运用非接触电阻率测量技术和光致发光谱技术(PL)对耐磨钢板Fe杂质在InP晶片中的分布进行电学和光学表征;采用扫描电子显微镜观察气孔的形貌;采用X射线衍射技术(XRD)对气孔周围的结晶质量进行研究;使用能量色散谱技术(EDS)测量耐磨钢板气孔的成分; 能谱仪(EDS)和荧光分光光度计对耐磨钢板所制备产物的成分,含量和发光性质进行了表征。
结果表明:采用该方法制备出的磷化铟纳米线长短不同,最小直径为20nm。在合适的条件下,改变反应温度、增加nm450耐磨钢板反应时间或改变碱溶液都可生长出高品质的磷化铟纳米线。随着半导体产业的不断发展进步,化合物半导体材料InP表现出来的优势越来越明显。熔体的化学配比能够影响晶体内部缺陷,从而决定着材料的性质。 在富磷条件下制备InP单晶材料,更有利于实现非掺杂InP的半绝缘特性。而在富磷熔体中进行InP单晶生长时,单晶锭内产生大量的气孔,严重影响了材料的性能。本文采用Huber腐蚀法和金相显微镜对晶片的位错密度进行统计;使用透射偏振差分谱技术对晶片进行热应力测试。非接触电阻率测量和光致发光谱结果表明。
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